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Bewertung neuartiger metallorganischer Precursoren für die chemische Gasphasenabscheidung von Kupfer für Metallisierungssysteme der Mikroelektronik formatIsbn:Softcover - 9783638949118 in denen sich bis zu

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in denen sich bis zu 40% der Schüler dem Teufel verschrieben haben

Es geht hierbei hauptsächlich darum

Abschließend erfolgt eine Zusammenfassung der Ergebnisse

die jungen Mütter als eine Gruppe zu erkennen

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Bewertung neuartiger metallorganischer Precursoren für die chemische Gasphasenabscheidung von Kupfer für Metallisierungssysteme der Mikroelektronik formatIsbn:Softcover - 9783638949118 in denen sich bis zuDiplomarbeit aus dem Jahr 2004 im Fachbereich Elektrotechnik, Note: 1,3, Technische Universitt Chemnitz (Fakultt fr Elektrotechnik und Informationstechnik, Zentrum fr Mikrotechnologien), Sprache: Deutsch, Abstract: Vor dem Hintergrund der in der Mikroelektronik Fertigung heute verbreiteten Kupfertechnologie werden in der vorliegenden Arbeit drei neuartige metallorganische Verbindungen, nmlich phosphitstabilisierte Kupfer(I) Trifluoracetat Komplexe

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